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第四十二章 野望
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    放鬆了一天。

    黃明哲年初四就接到馬知力的報告,他連忙趕過去材料研究所。

    “社長,你終於來了。”馬知力興奮的邊走邊說。

    看着馬知力等人那滿眼血絲、頭髮亂糟糟的樣子,就知道他們這些天一直在測試光敏材料規律模型。

    “老馬要勞逸結合,辦公室談吧!”黃明哲向辦公室去。

    “多謝社長關心,我一時間太興奮而已。”

    辦公室裏面,在場只有馬知力和四個研究員,其他人都還沒有回來上班。

    “都坐。”黃明哲坐下之後:“模型計算出來的出材效率是8.6%左右,而出材合格率是1.7%左右。”

    “是的,社長。”馬知力興奮的說道:“社長,你研發的計算模型太厲害了,簡直是材料研發的神器。”

    “宇宙萬物都在數學之中,沒有什麼不可以被計算。”黃明哲微笑着說道。

    如果之前有人在馬知力等人面前這樣說,他們絕對會嗤之以鼻,但是現在他們已經有些相信了。

    “社長,你這個模型要是發出去,估計可以引發材料學革命。”馬知力讚歎道。

    黃明哲搖搖頭說道:“這種國際精神要不得,這個模型我們內部自己用就可以了。”

    “社長說得對。”

    “我看了你們的報告,現在我給你們下一個任務。”

    “社長請吩咐。”馬知力連忙拿出筆記本說道。

    “研發一種X射線高敏膠。”

    “X射線高敏膠?社長是想研發光刻膠吧!”馬知力一聽便知道黃明哲的打算。

    黃明哲點了點頭:“沒有錯,就是X射線級別的光刻膠,我提幾個要求,波長最好在3~8納米之間;X射線敏感度要足夠高,最好可以在幾秒鐘之內徹底溶解;另外對於X射線的能量級別,最好不需要高能級就可以實現快速光分解。”

    “社長,如果我們研發X射線光刻膠,這個可是沒有客戶的。”馬知力提醒道。

    目前市面上的光刻機的光源,一般分爲紫外光(UV)、深紫外光(DUV)、極紫外光(EUV),其中最先進的光刻機,就是尼德蘭的阿斯麥公司生產的極紫外光(EUV),波長爲13.4納米。

    但是其實在上個世紀八十年代,光刻機行業之中,還有除了極紫外光(EUV)路線,還存在着另一個路線——X射線光刻機。

    爲什麼波長在10納米以下的X射線光刻機,最後被極紫外光(EUV)淘汰?

    原因有兩個,一是效率問題,X射線照射下光刻膠的光刻速度比較慢;二是精確度問題,爲什麼說波長10納米以下的X射線,光刻精度差?因爲掩模做不到10納米以下。

    掩模就是電路圖的母板,爲什麼極紫外光(EUV)的精度高,原因在於紫外光可以使用凸透鏡縮小從掩模過來的光線,而所有人都知道X射線的穿透力非常強,凸透鏡根本無法聚焦。

    所以X射線光刻機被淘汰了。

    市面上沒有X射線光刻機,也就意味着沒有客戶。

    “這個問題不是問題。”

    “社長沒有客戶的話……”

    黃明哲打斷了馬知力:“知道X射線光刻機爲什麼被淘汰嗎?”

    馬知力點了點頭。

    “效率問題在於光刻膠的光敏性,如果我們研發一種可以在幾秒鐘內完成光刻的X射線光刻膠,那效率還是問題嗎?”黃明哲反問道。

    “嗯?”馬知力一愣。

    確實如同黃明哲說的那樣,光刻效率問題其實就是光刻膠光敏性的影響,歸根結底就是材料問題,而材料問題不恰恰就是思維社的強項?

    “至於凸透鏡無法聚焦X射線,我們爲什麼不製造一種可以聚焦X射線的凸透鏡,這個同樣是凸透鏡材料的光敏性,材料可以改變一切。”黃明哲笑着提醒道。

    “對啊!我怎麼沒有想到?”馬知力頓時瞪大眼睛。

    其他人頓時也呼吸急促起來,如果他們解決了光刻膠和凸透鏡的光敏性,豈不是相當於完成了X射線光刻機的缺點彌補。

    而X射線光刻機的先天性優勢,就是發散性低、光線集中、波長短小精悍。

    “我們要完成一個獨立自主的光刻機系統,就不能按部就班走西方人的老路,不然永遠無法超越對方。”黃明哲說道。

    這個問題其實就是國內光刻機行業發展的攔路虎,按照西方人的路線走,別人的專利怎麼繞過去?

    另外光刻機的市場非常小,全世界來來去去就那麼多家芯片製造企業,阿斯麥公司和這些芯片製造企業的關係千絲萬縷,哪怕是造出來,估計也賣不出去。

    “社長,我們馬上安排材料計算,一定拿下X射線光刻膠和X射線凸透鏡。”馬知力堅定的說道。

    “注意休息,身體是革命的本錢。”黃明哲關心的說道。

    “多謝社長關心,我一定注意。”

    “老馬,另外你們要注意保密,這個東西可是關係到一個行業的話語權,馬虎不得。”黃明哲最後提醒道。

    “我一定注意。”馬知力臉色頓時一肅。

    ……

    黃明哲隨後將蔡知行叫過來,吩咐他準備好相關工作,在國內收購X射線光源製造公司、光學鏡片製造公司等等光刻機相關的企業。

    而思維社的計算機編程研究所,本身就擁有非常強大軟件實力,畢竟黃明哲可是獨立完成了初級人工智能幽靈的存在。

    而之前的仿真空間技術、有限元逆分析技術,也可以助力光刻機的設計。

    儘管思維社買不到阿斯麥公司的極紫外光(EUV)光刻機,但是上滬中微電子的低端光刻機有的是。

    買一臺低端光刻機回來,然後使用有限元逆分析,先完成光刻機各個系統整合,然後一步步升級改造,國內可以購買到的零件就不用造,國內沒有的想辦法自己造。

    2月16日。

    思維社的另一個子公司悄然在汕美市掛牌成立,名字叫神光儀器公司,這個公司成立得非常低調。

    而黃明哲將專門才自己的賬戶,撥款了4個億作爲初期發展資金。

    而材料研究所方面,儘管有規律模型的輔助,但是材料研發工作沒有那麼容易。

    他也一直在材料研究所,隨着研究所的研究員們陸陸續續復工,各項工作進度正在加快之中。

    “老馬,人員不夠可以向蔡經理說,讓他多招聘一些人。”

    “我晚上整理一下,列出一個缺口名單。”馬知力對於黃明哲,現在那是佩服到極點。

    除了光敏材料規律模型,黃明哲這些天又完成了彈性材料規律模型、電容材料規律模型。

    這兩個規律模型對於未來的材料學研究,都有非常多應用。

    彈性材料就是不用說了,電容材料通俗的說,就是電能儲存材料,和電池差不多。

    交代了一些事情之後,黃明哲便踏上去學校的路途。

    


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